精密涂布工藝及裝備
產(chǎn)品咨詢
1、浸涂（浸漬提拉法）工藝及裝備
浸漬提拉法是將基材垂直浸入鍍膜溶液(溶膠)中浸漬，然后將基材從溶液中垂直低速提拉起來，并使附著的液膜在空氣（氣相）中凝膠的方法。
1) 將基材垂直浸入鍍膜溶液（溶膠）中浸漬。
2)利用鍍膜溶液的粘度、表面張力和重力之間的相互作用開始提拉，提拉過程必須保證液面無振動，且基材垂直、勻速、平穩(wěn)、連續(xù)上升，從而確保在基材表面形成連續(xù)、均勻的薄膜。
3) 基材的提拉速度與鍍膜溶液的粘度和附著液向下流動的重力之間的關系，控制著鍍膜的厚度。
4) 形成均勻的薄膜，并完成“濕凝膠膜”向“干凝膠膜”的轉變。”干凝膠膜”經(jīng)過進一步的干燥及高溫熱處理便得到所需的納米薄膜材料。
2、微凹涂布工藝及裝備
微凹輥涂布方式的開發(fā)是基于市場對于薄層涂布均勻需求的提高。這種新的涂布方式機構簡單，工藝重復性好并且可靠。
微凹輥涂布采用吻涂的方式，而普通凹版涂布基本上都有背輥，背輥的作用是使基材與凹版輥更好的接觸，使涂布液更多的轉移。但是由于背輥產(chǎn)生了壓力，當壓力不當時，基材容易產(chǎn)生皺紋等問題，從而產(chǎn)生涂布不均勻現(xiàn)象。微凹版涂布使用吻涂，一些潛在的問題就沒有了。
-微凹輥的應用-
1.光學膜：光學膜涉及范圍較廣，應用微凹輥案例較多2.鋰電池隔膜及極片的涂布：早期主要使用φ50mm的微凹輥，目前普遍使用φ80-100mm的微凹輥
2.離型膜：離型膜尤其是光學級別的離型膜，主要應用φ50mm的微凹輥。
3.其他行業(yè)：ITO、電化鋁等行業(yè)均有少量應用微凹輥的案例。
3、狹縫涂布工藝及裝備
狹縫模具式涂布機示例
“模具涂布”，是一項利用塑料薄膜擠壓成型技術的涂裱技術。通過讓涂裱 液穿過“模具”，產(chǎn)生均勻的液膜，再使液膜接觸基材進行涂裱。該方式 通過壓力，將密閉在容器中的涂裱液供應到“模具”中，因此涂裱液不會 受到空氣的影響，可實現(xiàn)穩(wěn)定的涂裱。
作為代表性模具式涂布機的“狹縫模具式涂布機”，采用在設計上能夠使涂裱液在橫向上均勻分布的模具，通過在被稱為“模唇”的模具頂端與支撐輥之間產(chǎn)生斷層，實現(xiàn)涂裱膜的平滑化。
近年來，隨著對多層同時進行涂布的“多層狹縫模具”等裝置的高度化發(fā)展，高效涂布成為了可能。
4、超聲波噴涂工藝及裝備
超聲波噴涂方式的噴嘴頂端設有“霧化片（霧化面）”。隨著超聲波的振動，涂液會在霧化片上被抹開，開始形成波動。隨后，將超聲波的輸出功率增大到超出表面張力的程度，就會形成霧狀液滴并飛散。
由于形成的液滴微細均勻，適用于局部的均勻涂布。由于幾乎不會發(fā)生液滴的反彈及多余的飛濺，具有可將材料損耗降至最低的優(yōu)點。
根據(jù)不同的目的，可以選用各種長度、大小、形狀的噴嘴。通過設定必要的流量及振動頻率，噴涂均勻的液滴，可以控制涂布膜厚及膜質(zhì)。
具體用途包括硬涂層及防止反射、水 / 油隔離涂布、電子部件的絕緣膜及導電膜、半導體的光阻劑等。
可以噴涂干膜為納米級厚度的涂層，精度可達±5%。
5、旋涂工藝及裝備
“旋涂機”是一種利用旋轉離心力的涂布裝置，也被稱為“旋轉涂布機”。對于平滑的被涂物（工件），能夠形成薄且均勻的涂層。旋涂機的用途非常廣泛，代表性用途包括半導體晶圓的表面處理、光阻涂布等流程類工序，以及光學媒介涂膜、鏡頭底劑及調(diào)光液的涂布等。
將涂液滴落在被涂物（工件）的中心，進行高速旋轉。加速旋轉會對涂液施加離心力，使涂液擴散到整個表面并成膜。涂布膜厚取決于涂液的粘度、 被涂物的轉速、旋轉啟動加速度、與干燥速度相關的排氣。
旋涂的原理是依靠旋轉離心力將多余的涂液甩離被涂物，因此實際成膜的液量要少于滴落的液量，存在會導致材料損耗的缺點。
為了通過排氣控制干燥速度，防止涂液飛濺到設備外部，避免異物混入，旋轉體及滴落的機構通常都會被收納在箱體中，或采用涂裱時關閉上蓋的設計式樣。
設備的基本原理在近幾十年并未改變，但適用于被涂物不同尺寸、重量、材質(zhì)的裝置，轉速（速度）控制、自動滴落之類的規(guī)格功能等，都實現(xiàn)了更加多樣化的發(fā)展。
更多解決方案
社交媒體
抖音號
視頻號
官方微信公眾號
聯(lián)系方式
版權所有 ? 2024 廈門威亮科技創(chuàng)新集團有限公司
本網(wǎng)站已支持IPV6 網(wǎng)站建設：中企動力廈門
