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濕法涂布用IM（INDEX MARGIN）層消影液，消除ITO刻蝕線條視覺差

發(fā)布時間:

2024-08-16

ITO是氧化銦錫，一種顯示行業(yè)比較常見的透明導電材料，可以做的PET光學膜上，做成ITO透明導電膜，也可以做在玻璃上，做成ITO感應玻璃或者顯示液晶玻璃上。

1、ITO結(jié)構(gòu)

ITO可用于膜材和玻璃，常見結(jié)構(gòu)如下：

        

                                                          ITO膜結(jié)構(gòu)                                                                                                                      ITO玻璃結(jié)構(gòu)

         ITO層是主要的功能層，鍍層有很多種生產(chǎn)工藝，光電行業(yè)常使用磁控濺鍍的工藝，鍍膜一般是鍍多層，一層是幾千個埃，市場上ITO層厚度是從20到50納米之間。鍍層完后做蝕刻，這時候IM層（也叫UC層）就起到很好的消影效果。UC層是光學性能調(diào)節(jié)層，也可以叫消影層，或者也叫IM層，折射率匹配層，還可以做防牛頓環(huán)的鍍層。由于ITO層和PET層或玻璃的折射率不一樣，光線透過不同折射率的材料，相差越大，反射率越高，這個會導致后面ITO蝕刻后，線路的痕跡很明顯，影響屏幕的外觀，所以需要涂布一層折射率匹配層。

         以下圖為例，在ITO面與消影面的光線反射率接近，小于1%，就不會出現(xiàn)下圖左邊的不良。這個涂層的精密涂布要求比較高，現(xiàn)在能做的好的多是日本的企業(yè)，而很多ITO膜廠，干脆就購買IM膜。

 2、IM層組成

        膜系組成：IM(NB2O5/SiO2)+ITO根據(jù)ITO阻值不同，IM層厚度也需要做不同的調(diào)整。目前常用的消影ITO阻值為80~120Ω，ITO膜厚范圍20-27nm，IM層膜厚控制：總膜厚75-78nm，NB2O5 4.8~6nm，SiO2  66~72nm。（說明：各層膜厚準確控制，是消影效果的保證，設(shè)計膜系厚度NB/6、SiO2/64，配合ITO/24是理想的膜厚）

        IM層常用磁控濺射工藝，通過鍍氧化鈮、氧化硅來實現(xiàn)消影效果，雖然可以實現(xiàn)更好控制，但是效率不足，成本沒辦法降低，威亮基于現(xiàn)有平臺技術(shù)，推出IM消影液，采用納米氧化物調(diào)節(jié)折射率，可做到和ITO接近折射率2.0，再通過精密涂布工藝控制膜厚，實現(xiàn)輥涂或者卷對卷做消影膜或消影玻璃，不僅效率高，良率好，還可以進一步降低成本，達到降本增效效果。